智通财经APP获悉，国金证券发布研报称，光刻天真作晶圆制造最中枢缔造，面前国产化率不足5%，但国内产业链在光学系统、光源及双工件台等中枢次序已达成时期残害。跟着工信部将KrF/ArF光刻机列入《首台(套)重要时期装备本质愚弄指点目次》，国产替代进度有望加快，提议存眷中枢部件供应商。提议积极存眷产业链部分次序优质标的：汇成真空(301392.SZ)等。

国金证券主要不雅点如下：

光刻机是晶圆制造最中枢缔造之一，时期难度最高且面前国产化率最低

在半导体制造限制，光刻机是连续摩尔定律的中枢装备。面前最高端的产物为ASML研发的EUV光刻机，能撑合手7nm以至更先进工艺，是连续摩尔定律的中枢残害，正激动半导体产业合手续迭代。公共光刻机阛阓呈现出领悟的寡头把持形势。ASML、Nikon和Canon三家公司长期占据公共光刻机阛阓的主导地位。其中，ASML凭借其在高端光刻机限制的时期上风，2024年占据了公共光刻机阛阓61.2%的份额，畸形是在EUV光刻机限制，ASML是公共独一的供应商。尼康和佳能则主要都集在中低端光刻机限制。中国光刻机需求量较大，但国产化率极低。中国当今是ASML光刻机最大的客户，2024年因晶圆厂扩产景气度及逾额备货的身分中国区收入占比爆发增长至41%。国外制裁合手续加重，中枢科技受制于东说念主，国产替代大势所趋。

光学系统为光刻机最中枢部件

光刻机光学部件指径直参与光的传输和处治经由精密零部件。一台光刻机主要由以下系统构成：光学系统、曝光光源系统、双责任台、浸没系统、微电子系统、臆想机系统、精密机械系统和结尾系统等。其中光学系统主要构成部分为光刻机的物镜系统，一般由15～20个直径为200～300mm的透镜构成，用以赔偿光源通过掩模版映照到附有光刻胶的硅片名义时产生的光学纰谬，除此除外光学系统还包括反射镜、偏振器、滤光片、光阑等。

光学系统是光刻机的中枢，光刻机的最小工艺节点越小，对光学系统的精度条目越高。ASML的光刻机光学部件主要由蔡司供应，且单元光学价值最高的EUV光学部件仅有蔡司有供应才调。当今，超精密光学部件国产化虽已达成残害，但与蔡司进出甚远、任重说念远。国产的物镜系统已达成了工艺上的残害，如茂莱光学坐褥的超精密物镜系统用光学器件已达成搭载在i-line光刻机上，但其工艺比拟蔡司供给ASML的EUV光学物镜系统在面型精度、名义光洁度方向等苟简仍有较大差距

光源及双工台同为光刻机中枢部件，对光刻机成果起到伏击作用

光源是光刻机中枢之一，光刻机的工艺才调最初取决于其光源的波长，当今主流的曝光光源波长从g线(436nm)、i线(365nm)、KrF(248nm)、ArF(193nm)，一直缩减到EUV(13.5nm)。常见光刻光源包括汞灯(g-line、i-line)、准分子激光(KrF、ArF)和极紫外光(EUV)。双工件台系统是光刻机中承载和出动晶圆的转折子系统。ASML的双工件台系统通过两个好意思满晶圆台的协同责任，大幅升迁了光刻机的产能。工件台的开放速率、精度和褂讪性径直影响光刻机的分歧率、套刻精度和产出。

相干供应链企业致力于攻坚，国内高端光刻机残害大势所趋

攻坚克难正那时，产业证实有望迎来加快期。自02专项以来，以上海微为代表的光刻机整机公司在部分制程上已得回较为显耀的收货，完成了末端的0到1残害，在低端次序后续有望迎来产业端放量;在高端整机次序，2024年工信部发布的《首台(套)重要时期装备本质愚弄指点目次》中将国产KrF及ArF光刻机明确列入，记号着我国在DUV光刻机已得回明确证实。

风险领导

产业证实不足预期、末端需求不足预期、中枢坐褥制造缔造管控的风险。

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